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真空：泛指低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài)

特點(diǎn)：

1、真空吸盤容器受大氣壓的作用，壓力大小決定于容器內(nèi)外的壓力差；

2、真空狀態(tài)下，氣體稀薄，單位體積分子數(shù)少，分子之間或與其他質(zhì)點(diǎn)（如電子、離子）以及器壁的碰撞次數(shù)少。

真空科學(xué)與技術(shù)的分支學(xué)科

真空技術(shù)：真空獲得、測(cè)量、檢漏、真空系統(tǒng)及元件

真空冶煉：鑄造、熱處理、焊接、單晶體制備

等離子體科學(xué)與技術(shù)：磁控濺射、離子鍍、CVD、等離子體顯示器

薄膜科學(xué)與技術(shù)：蒸發(fā)鍍、離子鍍、CVD、濺射鍍膜

電子材料加工工藝：電子器件、半導(dǎo)體器件、光電材料、外延、掩膜和刻蝕

表面科學(xué)：固體表面電子結(jié)構(gòu)、原子結(jié)構(gòu)，隧道顯微鏡，表面性能測(cè)試

應(yīng)用表面科學(xué)：紫外光電子能譜、x光電子能譜等表面分析儀器

納米科學(xué)與技術(shù)：材料制備、性能測(cè)試與分析、應(yīng)用

真空度的單位及真空區(qū)域的劃分

真空度

是對(duì)氣體稀薄程度的一種客觀量度，直接的物理量應(yīng)該是每單位體積中的分子數(shù)，由于歷史原因，真空度的高

低通常用氣體壓強(qiáng)表示，氣壓低，真空度高，反之，真空度低。

氣體壓力：氣體作用于單位面積器壁的壓力。單位： 達(dá)因/厘米2和牛頓/米2。帕

真空度測(cè)量：

早期采用Hg柱高度測(cè)量壓強(qiáng)，1大氣壓=760mmHg后來發(fā)現(xiàn)Hg有7種同位素，密度不同，這樣同一汞柱表示出

來的壓強(qiáng)不唯一。第10屆國(guó)際計(jì)量大會(huì)決定改用帕來定義標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，規(guī)定：1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓（atm）=1.013×10 5 Pa ，大氣壓的1/760稱為1托（Torr），1托幾乎等于1mmHg，

1Torr=1/760Pa=133.33Pa；

1mbar=100Pa=0.75mmHg

1PSI=6895Pa=68.95mbar=51.715mmHg

真空區(qū)域的劃分：

真空區(qū)域的劃分沒有統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)，國(guó)內(nèi)劃分也不統(tǒng)一，一般分

為5個(gè)區(qū)域：

粗真空760~10Torr

低真空10~10-3 Torr

高真空10-3 ~10 -8 Torr

超高真空10-8 ~10 -12Torr

真空技術(shù)的應(yīng)用

廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)、科學(xué)研究的各個(gè)領(lǐng)域。

例如：壓力差制成真空吸盤、真空送料；電子管、離子加速器（碰撞少）；冶金工業(yè)：真空冶煉、脫氣、精煉、熱處理、稀有金屬、半導(dǎo)體材料制備；食品工業(yè)，真空保鮮、包裝、冷凍干燥；活性物質(zhì)防氧化（延長(zhǎng)壽命，燈泡）；表面物理學(xué)（潔凈表面進(jìn)行充分實(shí)驗(yàn)研究）